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第510章 十八纳米光刻机(2 / 2)

这是什么概念?

“如果把这块镜子放大到我们大夏一个行省那么大。”院士用了一个形象的比喻,“那么这块大地上最高的山峰或最深的峡谷,起伏绝对不能超过一根头发丝的厚度!”

这是真正的原子级平坦。

大夏的能工巧匠们,用离子束抛光技术,在无尘车间里耗费了数年光阴,才勉强磨出了几块合格的镜片。

而这,还仅仅只是光刻机数万个精密零件中的冰山一角。

为了防止光线被吸收,整个光刻过程必须在严苛的高真空环境中进行。

为了保证套刻精度,承载硅片的机械双工作台,在高速移动和刹车时,其定位误差不能超过几纳米,这相当于两列高速行驶的动车并排行驶,误差不能超过一粒米。

这项被命名为极光的超级工程,几乎抽干了大夏近二十年在材料学、流体力学、精密机械加工和光学领域的全部顶尖心血。

……

【神谕纪元·三五二六年】

王都,大夏半导体核心制造基地。

整整二十年的试错与图纸迭代。

无数次因为碎屑污染反射镜而导致的停机清洗,无数次因为激光对焦差了微秒而导致的光源熄灭。

今天,一台犹如一座两层楼高的小型金属宫殿般的机器,静静地矗立在最高级别的超净间内。

这便是大夏第一台真正意义上实现量产突破的极紫外光刻机原型机。

操作台前,已经满头白发的光学院士,用岁数大太大而忍不住颤抖的手按下了启动键。

真空泵发出低沉的轰鸣,抽干了腔室内的最后一丝空气。

液滴发生器开始工作,激光发生器充能完毕。

“啪!啪!啪!”

虽然在真空室外听不到声音,但监视屏幕上的波形图显示,那每秒五万次的微观核爆正在稳定地产生着珍贵的极紫外光。

光束经过十几面原子级平滑的反射镜不断折叠、校正,穿过刻有复杂电路图的掩模版,最终,精准地打在了下方涂有光刻胶的硅片上。

曝光,移动,再曝光。

几个时辰后,第一批经过EUV光刻机曝光、并完成后续蚀刻与封装的硅晶圆,被送到了电子显微镜下。

所有参与项目的顶尖学者,都屏住呼吸,死死地盯着屏幕上放大的微观结构。

没有原本在深紫外光下那种边缘模糊的衍射现象。

一道道沟壑分明、排列极其规整的晶体管栅极线路,如同神明在大地上犁出的完美沟渠,清晰地展现在众人眼前。

测算员拿着电子游标卡尺,在屏幕上进行着比对。

“栅极宽度,十八纳米!”

“线路清晰,漏电率在完美阈值内!良品率达到百分之八十五以上!”

“突破了!我们彻底跨过了二十八纳米的深渊!”

整个超净间外侧的观察走廊上,瞬间爆发出了雷鸣般的掌声和喜极而泣的欢呼声。

二十年的蛰伏,耗资三十七亿宝钞的大型系统工程。

大夏终于用这把由等离子体和全反射镜打造而成的刻刀,在硅基图纸上,刻下了一笔。

十八纳米芯片的量产,意味着大夏原本已经达到瓶颈的超级计算机,其体积可以再次缩小一半,或者算力直接翻倍。

在那个名为大夏的帝国版图上,无论是正在轨道上孤独运行的卫星,还是地下室里推演可控核聚变参数的学者,都将因为这微小的一纳米级的跨越,而获得更加强大的算力支撑,这可能就是未来突破的关键推手之一。

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